フォトリソ用小型現像装置 製品情報

フォトリソ用小型現像装置

スイングノズル式のスプレー現像・パドル現像対応装置など取り揃えております。

フォトリソ用卓上型現像装置 DV-200

概要
スイングノズル式のスプレー現像・パドル現像対応装置
特徴
高性能・低価格・コンパクト卓上タイプ
ワークサイズφ1"~φ6"
液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作
薬液圧送ポンプ2系統を内蔵
photolitho_dv-200.jpg
構成
本体部 チャンバー ステンレス製チャンバー
回転機構 3段の耐溶剤軸シール処理
回転軸に吸着用真空ライン施工処理
薬液圧送 マイクロポンプを現像液用とリンス液用と2基搭載
(タンク圧送もできます)
薬液吐出 ①スプレー吐出
 フルコーン又はフラットコーンのステンレスノズル(又はセラミックノズル)
②パドル吐出
 ストレートノズル 多段ステップ回転式 (0回転プログラム可能)
③スイングノズル式 (スプレー吐出時)
 対象基板の直径によりノズル振角設定。薬液の吐出を行いながらスイング動作をします。
制御部 シーケンス ステップ数 : 24ステップ
プログラムモード : 10モード
(オプション : ステップ数 96、レシピコピー機能付)
インターロック ● 真空吸着確認センサー
● 処理室カバーインターロック
● ノズル移動オーバーランリミッタ
オプション ① 薬液温度管理システム (加圧方式)
② 各種基板ホルダー (吸着式、メカチャック式)
③ ミストトラップ
④ 真空吸着用真空ポンプ
⑤ 設置用作業台
仕様
処理枚数 150φ又は100Sq基板 (最大):1枚
1インチφ~6インチφ:1枚
プロセス 現像液:1系統
リンス:1系統
(マイクロポンプによる脈動のない圧送ができます)
使用薬液 アルカリ系現像液、アルコール系溶剤
処理時間設定 最小:1秒
基板回転数 0~3000rpm 任意設定
スイングノズル移動量 プログラムによる振角任意設定
センタ固定もできます
寸法・重量 本体部:550Wx400Dx440H (mm)
〔カバー開閉時740Hmm〕
約33Kg
電源 AC100V 4A
真空 350mmHg以下
局所排気 0.3m3/分

フォトリソ用卓上型現像装置 DV-3000

概要
2アームスイングノズル式のスプレー現像・パドル現像対応装置
特徴
高性能・低価格・コンパクト卓上タイプ
ワークサイズ最大300mmφ(φ12")
液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作
photolitho_dv-3000.jpg
構成
本体部 チャンバー オールステンレス製チャンバー
回転機構 3段の軸シール処理
回転軸に吸着用真空ライン施工処理
薬液圧送 加圧タンク方式
薬液吐出 ①スプレー吐出 (フルコーン円錐ノズル)
②パドル吐出 (ストレートチューブノズル)
③2アームスイングノズル式 (スプレー・パドル吐出時)
 対象基板の直径によりノズル振角設定。薬液の吐出を行いながらスイング動作をします。1アーム単独又は2アームスイング動作
制御部 シーケンス ステップ数 : 48ステップ
プログラムモード : 10モード
(オプション : レシピコピー機能付)
インターロック ● 真空吸着確認センサー
● 処理室カバーインターロック
● ノズル移動オーバーランリミッタ
オプション ① 薬液圧送用加圧タンク
② 薬液温度管理システム (加圧方式)
③ 各種基板ホルダー (吸着式、メカチャック式)
④ N 2 ブロー機能
⑤ 薬液系統追加
⑥ パドルノズル
⑦ ミストトラップ
⑧ 真空吸着用真空ポンプ
⑨ 設置用作業台
仕様
処理枚数 300φ又は220Sq基板 (最大):1枚
1インチφ~12インチφ:1枚
プロセス 現像:1系統 (2ノズル)
リンス:1系統 (2ノズル)
バックリンス:1系統
使用薬液 アルカリ系現像液
処理時間設定 1秒~999秒
基板回転数 0~3000rpm 任意設定
スイングノズル移動量 プログラムによる振角任意設定
センタ固定もできます
寸法・重量 本体部:720Wx520Dx500H(mm)
〔カバー開閉時910Hmm〕
約60Kg
電源 AC200V 3相15A
真空 350mmHg以下
局所排気 0.3m3/分

※ 本製品について、仕様・外観を予告無く変更する場合があります。予めご了承下さい。

フォトリソ用小型現像装置

この製品のカテゴリー